半导体(CVD)工艺专用氢气检测仪是专门针对化学气相沉积环境设计的一款防爆型H2气体报警仪装置，产品集成高精度氢气检测与多气体监测功能，是保障半导体工艺安全的核心设备。半导体(CVD)工艺专用氢气检测仪兼容催燃烧，热传导等传感技术，氢气检测精度达±3% FS，量程覆盖0-50000ppm、0-100% LEL双模式，满足CVD工艺从微量泄漏到高浓度监测的全场景需求。同时集成氧气(0-25% VOL)、甲烷(0-100% LEL)等气体检测模块，同步捕捉工艺环境多维度风险。

半导体(CVD)工艺专用氢气检测仪搭载工业级GPRS无线传输模块，可实时将检测数据上传至云平台，支持电脑端管理系统与手机 APP 远程查看，数据传输延迟≤1 秒，满足 SEMI 标准对工艺参数记录的要求。内置 16GB 存储芯片，可保存 5 年以上历史数据，支持 Excel 格式导出，便于合规审计。

半导体(CVD)工艺专用氢气检测仪响应时间 T90≤10秒，配备三级报警系统(声光振 + 远程推送)，报警阈值可自定义设置。设备采用 316L 不锈钢外壳，防护等级 IP67，耐受 CVD 工艺区的高温(-20~60℃)与腐蚀性环境，确保长期稳定运行。另外通过 EtherCAT 接口可与 CVD 设备 PLC 系统联动，超标时自动触发气体切断阀与通风装置，构建 "检测 - 报警 - 处置" 的闭环安全体系，为半导体薄膜沉积工艺提供全方位气体安全保障。