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半导体车间一氧化碳检测仪应用解决方案-深国安

半导体车间一氧化碳检测仪应用背景:

一氧化碳(CO)是半导体车间的潜在高危气体,主要来源于工艺配套设备(如燃气加热炉、氢气燃烧器)的不完全燃烧、化学气相沉积(CVD)等工艺副反应、以及应急发电设备尾气泄漏。其核心风险在于剧毒无色无味(职业接触限值 PC-TWA=20mg/m³≈16ppm,MAC=30mg/m³≈24ppm),泄漏后易在洁净车间、设备腔体、管道夹层等密闭空间积聚,人员难以察觉,短期高浓度接触可引发中毒甚至猝死;同时,CO 可能与工艺气体(如氢气、硅烷)发生反应,影响产品良率。

半导体车间一氧化碳检测仪

半导体车间专用SGA-501一氧化碳检测仪,是深国安专为 Class 10~1000 级洁净车间、CVD 设备区、工艺管道周边等场景定制,以 “无颗粒污染、抗电磁干扰、高精度预警” 为核心,精准防控 CO 泄漏风险,既保障作业人员健康,又避免 CO 与工艺气体反应影响产品良率,是半导体高端制造的安全必备设备。

半导体车间一氧化碳检测仪

半导体车间专用SGA-501一氧化碳检测仪搭载进口电化学传感器,采用抗电磁干扰算法,可有效屏蔽车间高频设备的信号干扰,检测量程覆盖 0~100ppm(可扩展至 500ppm),分辨率达 0.001ppm,测量精度≤±3% F.S.,响应时间(T90)≤8 秒,能快速捕捉 ppm 级微量泄漏 —— 针对燃气加热炉尾气、CVD 工艺副反应等 CO 来源,精准监测浓度波动,提前预警中毒与工艺干扰风险。

半导体车间一氧化碳检测仪

半导体车间一氧化碳检测仪布设方案

1.工艺设备周边:CVD 设备、燃气加热炉、氢气燃烧器等 CO 产生源周边 1 米内,各布设 1 台固定式一氧化碳检测仪,安装高度距设备排气口 0.5~1 米,捕捉燃烧尾气泄漏;

2.密闭 / 半密闭空间:设备腔体检修口、管道夹层、气柜内部、车间吊顶夹层等通风不良区域,每 20~30 平方米布设 1 台固定式一氧化碳检测仪,安装高度距地面 0.5~1 米(CO 密度与空气接近,易在低处积聚);

3.人员活动区:车间操作平台、巡检通道、休息区入口处,每 50~80 米布设 1 台固定式一氧化碳检测仪,安装高度 1.5~2 米,确保人员活动范围内的安全监测;

4.移动巡检覆盖:日常设备维护、工艺调整、应急处置时,配备便携式一氧化碳检测仪,重点检测隐蔽部位(如设备底部、管道接口、腔体内部)。

半导体车间一氧化碳检测仪


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