化学气相沉积(CVD)工艺专用AR氩气探测器：

在半导体 CVD 工艺中，氩气作为保护气(隔绝空气防薄膜氧化)与载气(输送反应气体)，其纯度直接决定薄膜沉积质量 —— 即使 ppb 级(10⁻⁹)的杂质(如氧气、水分)也可能导致晶圆出现针孔、组分偏差等缺陷。深国安自主研发一款化学气相沉积(CVD)工艺专用AR氩气探测器，产品以 “ppb级分辨率” 为核心，专为 3nm-90nm先进制程设计，精准捕捉氩气中微量杂质，为 CVD 工艺纯度管控与安全生产提供可靠监测。

化学气相沉积(CVD)工艺专用AR氩气探测器采用进口热传导传感技术，针对氩气中氧气、水分等关键杂质的特征吸收波长(如氧气 1450nm、水分 1390nm)进行精准检测，杂质检出限低至 0.1ppb，分辨率达 0.01ppb，较传统热导式检测仪灵敏度提升 100 倍。检测量程覆盖0-100PPM、10%VOL、50%VOL、100%VOL等，误差≤±3% FS，响应时间≤10秒，可实时捕捉氩气钢瓶切换、管道泄漏等场景的纯度波动。

化学气相沉积(CVD)工艺专用AR氩气探测器采用316L不锈钢外壳(符合 Class 5 洁净标准)与 PTFE 防腐涂层，耐受 CVD 工艺 80℃高温、95% 高湿及硅烷、氨气等腐蚀性气体;内置温湿度补偿算法，在 - 40℃~70℃区间数据漂移≤±0.5ppb/24h，彻底解决传统设备环境干扰问题。支持 4-20mA/RS485 信号输出，可与 CVD 腔体 PLC 系统联动 —— 当杂质浓度超 5ppb 时，自动切换备用氩气钢瓶并启动纯化装置;超 10ppb 时触发工艺暂停，避免缺陷晶圆产生。

化学气相沉积(CVD)工艺专用AR氩气探测器配备SGA-IoT 物联网平台，支持 1000 台设备同时联网，实时显示纯度曲线与杂质趋势，内置 AI 故障预测模块可提前 72 小时预警传感器失效。目前该检测仪已通过 SGS 洁净室兼容性测试，在多家半导体企业12 英寸 CVD 产线应用中，将薄膜良率提升 2.5%，杂质异常处置时间缩短至 30 秒，为先进制程 CVD 工艺的氩气纯度管控提供专业解决方案。