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半导体气相沉积(CVD)工艺巡检-便携式H2氢气检测仪-深国安

添加时间  :  2025-10-23 10:07:00
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半导体气相沉积(CVD)工艺便携式H2氢气检测仪应用背景:

在半导体气相沉积工艺里,氢气常作为载气或反应气体。它具有易燃易爆的特性,爆炸极限范围是4% - 75%(体积分数)。在CVD工艺巡检时,由于工艺区域设备众多、管道复杂,氢气可能在一些隐蔽位置泄漏,若不能及时发现,遇到点火源就会引发爆炸或火灾,严重威胁人员安全、设备正常运行以及产品质量。所以,使用便携式H₂氢气检测仪进行巡检十分必要,它能快速、灵活地检测不同位置的氢气浓度,及时发现泄漏隐患。

半导体气相沉积(CVD)工艺专用便携式H2氢气检测仪

CVD 工艺中氢气泄漏多为微量(初期泄漏浓度常低于 1% VOL),但需在达到爆炸极限前及时预警。SGA-606便携式H2氢气检测仪采用进口热传导传感器 ,具备超高检测精度:检测范围覆盖 0-100% VOL,最低分辨率达 0.01% VOL,检测误差≤±1% F.S,可精准识别 0.1% VOL 的微量泄漏;T90 响应时间≤15秒,比常规电化学传感器快 30%,能快速捕捉 CVD 设备管路接头、反应腔室门密封处的突发泄漏,避免泄漏气体扩散后形成安全隐患。

半导体气相沉积(CVD)工艺专用便携式H2氢气检测仪

通常CVD工艺环境中存在硅烷(SiH₄)、氨气(NH₃)、乙硼烷(B₂H₆)等多种工艺气体,常规氢气检测仪易受交叉干扰导致数据失真。半导体气相沉积(CVD)工艺专用便携式H2氢气检测仪通过双通道气体过滤系统与智能算法补偿技术,内置聚四氟乙烯过滤膜可拦截硅烷、硼烷等腐蚀性气体,避免传感器中毒;同时通过算法自动抵消氨气等气体对检测信号的影响,确保在多气体共存环境中,氢气检测数据准确率仍保持 99% 以上,适配 CVD 工艺巡检的复杂气体场景。

半导体气相沉积(CVD)工艺专用便携式H2氢气检测仪

半导体气相沉积(CVD)工艺专用便携式H2氢气检测仪,外观笑气轻便,重量仅300g(约相当于一部手机重量),机身设计符合人体工学,握持处采用防滑硅胶材质,长时间手持无疲劳感;配备5000mAh 高容量锂电池,单次充电可连续检测 18小时,支持USB快充(充电1小时可续航 6 小时),即使中途电量不足,也能快速补电,完全满足单班巡检需求。

半导体气相沉积(CVD)工艺专用便携式H2氢气检测仪

半导体气相沉积(CVD)工艺专用便携式H2氢气检测仪支持本地存储 + 无线传输双重数据管理:本地可存储 10 万条检测数据(含时间、浓度、位置信息),存储周期无限制;同时具备蓝牙、GPRS、WiFi等传输功能,可实时将巡检数据上传至车间 MES 系统(制造执行系统)或安全管理平台,数据自动生成 Excel 报表,无需人工录入,减少数据误差,满足《半导体行业气体安全管理规范》中对巡检数据可追溯的要求。

半导体气相沉积(CVD)工艺专用便携式H2氢气检测仪

便携式H2氢气检测仪使用方法

‌开机前检查‌:检查检测仪的外观是否完好,传感器是否清洁,电池电量是否充足。

‌开机校准‌:按照仪器说明书的要求进行开机操作,并进行零点校准和量程校准,确保检测仪的准确性。

‌巡检路线规划‌:根据CVD工艺区域的布局和设备分布,规划合理的巡检路线,确保覆盖所有可能存在氢气泄漏的部位,如氢气供应管道、反应设备、阀门连接处等。

‌检测操作‌:在巡检过程中,将检测仪的进气口靠近检测部位,保持适当的检测距离和时间,等待检测仪显示稳定的氢气浓度数值。如果浓度超过安全阈值,检测仪会发出声光报警信号,巡检人员应及时采取措施,如停止设备运行、通风换气等。

‌数据记录‌:记录每次检测的时间、地点和氢气浓度数值,以便后续分析和追溯。

半导体气相沉积(CVD)工艺专用便携式H2氢气检测仪

日常维护与保养

‌定期校准‌:按照规定的时间间隔对检测仪进行校准,一般每3 - 6个月校准一次,确保检测仪的准确性和可靠性。

‌传感器维护‌:定期清洁传感器,避免传感器受到灰尘、油污等污染。如果传感器出现故障或性能下降,应及时更换。

‌电池维护‌:注意电池的使用和充电,避免电池过放或过充。长期不使用时,应将电池取出并妥善保存。

‌存放环境‌:检测仪应存放在干燥、通风、无腐蚀性气体的环境中,避免受到高温、高湿、强电磁场等因素的影响。



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